イノベーション・ジャパン2017 ~大学見本市&ビジネスマッチング~
Innovation Japan 2017
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装置・デバイス・ロボット・AI
東京都

株式会社エリオニクス

小間NM-09
プレNM-09

ウェハーサイズ3次元ナノインプリントモールド用超高速電子ビーム加工装置の研究開発

低コストで高性能なナノインプリントモールド作成のために

出展ゾーン
NEDOゾーン
出展分野
装置・デバイス・ロボット・AI
小間番号
NM-09
NEDOプレゼンテーション
NM-09
9月1日(金)
NEDOプレゼンテーション 会場1
11:25

出展概要

製品・技術の名称
超高速電子ビーム描画装置とそれを利用したナノインプリントモールド作成技術

 

展示の概要
ナノインプリントは次世代のリソグラフィ技術として期待されていますが、いくつかの課題のためにその普及が遅れています。その課題の一つが、パターンの原盤となるモールド作成コストです。本テーマでは、比較的安価なポイントビーム型の電子ビーム描画装置のスループットを圧倒的に向上させて、モールド作成コストを低下させ、サブミクロンオーダーのナノインプリント技術の普及を促進します。

 

コアの技術・特許情報
電子ビーム描画によるナノメートルオーダーのマスクレス加工技術
イオンビームを利用したエッチング・成膜技術
3次元粗さ解析装置・ナノインデンテーションテスター・表面力測定装置などの材料表面評価技術
上記の技術を統合したプロセス・解析を含めたトータルソリューションの提案

 

特徴・ポイント
従来のポイントビーム型描画装置の10倍以上の大出力ビーム、かつサブミクロンサイズの超微細加工が可能
スループットを向上させるため機械・電気・ソフトウエア全てにおいて最適化を実施。従来装置の40倍のスループットに。

 

想定される提供先・提供先へのメリット
ナノインプリントリソグラフィーをご検討中の光学デバイスおよび半導体メーカーの方
・Cost of Ownershipが他のリソグラフィ法と比較して1桁以上安価
・マスクレス加工なので、フレキシブルな設計変更が可能。開発のTATのスピードアップ
・ダイレクト加工によるR&Dと、モールド作成による量産の2Wayマシンとして運用が可能
・消費電力が他の生産用リソグラフィ技術と比較して1/10~1/10000以下で、非常に省エネ

 

主な実績
本テーマのベース技術を有した描画装置の出荷実績:国内国立大学2台、国内半導体メーカー1台。

 

 

ハイスループット電子ビーム描画装置ELS-HS50/High throughput electron beam lithography system "ELS-HS50"

3Dナノ加工技術/3D nano structures

出展者プロフィール

1975年の創立以来、常に最先端の科学技術の進歩に貢献する装置作りを目指して、ナノテクノロジーの研究開発用装置を世に送り出してきました。電子ビーム描画装置では、1997年に、当時の最高スペックを1/5にした線幅10nmを描ける超高精細電子線描画装置を開発、その後も次々に世界最高性能の装置を開発してきました。私たちはこれからも最高性能の装置、最高の顧客満足を提供する世界ブランドの企業を目指してまいります。

お問い合わせ先

株式会社エリオニクス

電話:042-626-0611  

URLまたはメールアドレス:https://www.elionix.co.jp/contact/index.html

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