イノベーション・ジャパン2017 ~大学見本市&ビジネスマッチング~
Innovation Japan 2017
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装置・デバイス・ロボット・AI
京都府

国立大学法人京都大学(FLOSFIA)

小間NM-03
プレNM-03

高品質/高均質薄膜を実現する非真空成膜プロセスの研究開発

非真空で高品質な成膜を実現!

出展ゾーン
NEDOゾーン
出展分野
装置・デバイス・ロボット・AI
小間番号
NM-03
NEDOプレゼンテーション
NM-03
9月1日(金)
NEDOプレゼンテーション 会場1
10:40

出展概要

製品・技術の名称
非真空ミストデポジション法

 

展示の概要
非真空ミストデポジション法を用いて成膜したサンプルを展示いたします。非真空プロセスにもかかわらず、高品質な金属酸化物・金属・有機物を様々な基材の上に成膜されている技術を確立しています。

 

コアの技術・特許情報
低コストかつ省エネルギーな非真空ミストデポジション法は、ナノレベルで制御され高度な機能を持つ高品質/高均一薄膜を成膜することができ、半導体デバイスやコーティング分野への応用が期待されます。

 

特徴・ポイント
1) 非真空プロセスによる成膜が可能
2) 単結晶から非晶質・ポリマー等の成膜が可能
3) 様々な形状の基材上への成膜が可能
4) 大口径化に最適な成膜構造

 

想定される提供先・提供先へのメリット
◇電子デバイス業界
→真空プロセスの代替等
◇コーティング業界
→機能性付加、加飾等

 

主な実績
既に30社以上との成膜ビジネスを展開中。
大手電子デバイス業界、ガラス業界等での採用実績あり。

 

 

4inch ウエハ上の金成膜

フィルムへのロジウム成膜

出展者プロフィール

設立: 2011年3月31日 資本金: 14億5,8691万円 従業員: 30名
事業内容: 酸化ガリウムを用いたパワーデバイス事業とミストCVD法を用いた成膜ソリューション事業

お問い合わせ先

株式会社FLOSFIA 営業部

電話:075-963-5202  

URLまたはメールアドレス:igawa@flosfia.com

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