イノベーション・ジャパン2017 ~大学見本市&ビジネスマッチング~
Innovation Japan 2017
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ナノテクノロジー

神奈川大学 理学部 化学科

山口和夫 教授

小間N-16
プレ0831-東1-B-11

光応答性ホスホン酸単分子膜を用いた表面制御技術の開発

Kanagawa University

Professor Kazuo Yamaguchi

Development of suface control technique using photosensitive phosphonic acid monolayers

9 産業と技術革新の 基盤をつくろう
出展ゾーン
大学等シーズ展示
出展分野
ナノテクノロジー
小間番号
N-16
JSTショートプレゼン
0831-東1-B-11
8月31日(木)
JSTショートプレゼン東1-B
11:30

展示概要

技術概要
本技術は長波長UVに応答する光分解性基を有する光応答性表面修飾剤を用いた表面制御技術である。光応答性表面修飾剤により形成された単分子膜はUV照射により分解し、アミノ基、カルボキシ基などの官能基を生じることで表面のぬれ性と反応性を制御できる。表面修飾剤として、金属酸化物基板上に自己組織化単分子膜を形成するホスホン酸誘導体を用いて、新しいパターニング技術を開発した。

想定される活用例
・金属酸化物基板の表面修飾剤としての利用
・プリンタブルエレクトロニクスへ向けた表面パターニング
・水溶液中での基板修飾が求められる場合での利用

 

展示のみどころ
感光性表面修飾剤を用いた基板の作製と、得られた基板のパターニングを紹介する。実際に得られるパターンは、銀ナノ粒子や蛍光色素の塗布により可視化可能である。

特許情報

特許情報1 発明の名称
化合物、表面処理剤、及び表面処理方法
特許情報1 出願人
神奈川大学
特許情報1 発明者
山口和夫
特許情報1 出願日
2015/5/11
特許情報1 出願番号
2015-096874
特許情報2 発明の名称
シャーレ型細胞培養容器
特許情報2 出願人
神奈川大学、物質材料研究機構、ニイガタ(株)
特許情報2 発明者
山口和夫、伊藤倫子、山本翔太、中西淳、山本浩司
特許情報2 出願日
2015/8/26
特許情報2 出願番号
2015-167060
特許情報3 発明の名称
パターン形成方法及び対象物の被処理面の改質方法
特許情報3 出願人
神奈川大学、ニコン(株)
特許情報3 発明者
山口和夫、小西翼、川上雄介
特許情報3 出願日
2015/12/28
特許情報3 出願番号
2015-257436

お問い合わせ先

神奈川大学研究支援部平塚研究支援課

電話:0463-59-4111   FAX:0463-58-9688  

URL:http://ku-labo.kanagawa-u.ac.jp/detail/detail_sci_1112.html

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